光刻机和光刻胶有区别吗？

　　有。光刻胶是光刻机研发的重要材料，是微电子技术中微细图形加工的关键材料，光刻机利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面，想要在硅片表面留下痕迹就需要在其表面涂上光刻胶。光刻胶抗蚀性、表面张力上都有极高的要求，光刻胶布不止应用在芯片还有高端面板、发光二极管等。光刻机需要在光刻胶的基础上才开始画图作业。