极紫外光刻是由Karl L. Swartzlander Jr.发明的。Swartzlander是一位美国物理学家,他于1980年代开发出了可用于制造晶片的极紫外光刻技术。这一技术使用波长为13.5纳米的光线,比传统的深紫外光刻技术使用的光线波长要短得多。这意味着可以更精确地制造出更小的元件,从而使得晶片的集成度更高,性能更强大。
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